El sector de los semiconductores se encuentra en un momento fascinante. Durante décadas, su trayectoria estuvo marcada por la famosa predicción que hizo en 1965 el cofundador de Intel Gordon Moore, quien observó que el número de transistores de un circuito integrado se duplicaba aproximadamente cada dos años. La conocida como Ley de Moore impulsó al sector e hizo que este pudiera ofrecer chips cada vez más pequeños, rápidos y baratos, transformando así nuestras infraestructuras, nuestros hogares, e incluso nuestros dispositivos móviles.
Sin embargo, mientras el sector sigue enfrascado en su tarea de reducir los transistores por debajo del rango de un nanómetro (nm), también se enfrenta a una serie de desafíos sin precedentes. Ciertos obstáculos, como el fuerte aumento de los costes de producción, están reconfigurando la hoja de ruta de los fabricantes de chips y provocando desviaciones de la Ley de Moore.
Uno de los avances más transformadores en la historia reciente de los semiconductores ha sido el desarrollo de la tecnología de litografía ultravioleta extrema (EUV) de ASML. Mediante el uso de luz con una longitud de onda de 13,5 nm, las máquinas EUV han supuesto un avance significativo en este campo al permitir el patronado preciso de estructuras a escalas inferiores a 7 nm.
De cara al futuro, la adopción de nuevas estrategias y tecnologías está permitiendo al sector de los semiconductores abordar los desafíos a los que se enfrenta el proceso de miniaturización. Estos enfoques consisten en explorar diferentes arquitecturas y desarrollar nuevos métodos de prueba para mejorar el rendimiento (aumentar el número de chips funcionales producidos a partir de cada oblea), al tiempo que se abordan las limitaciones impuestas por la física y la economía.
